金属の純度は不純物と関係があり、不純物には化学不純物（元素）と物理不純物（結晶欠陥）がおおよそ含まれる。物理不純物は主に転位と空孔を指し、化学不純物は原子が置換または充填ギャップの形でマトリックス外に組み込まれることを指す。しかし、物理的不純物の概念は、金属の純度が非常に高い基準（例えば、純度が9 N以上の金属）に達している場合にのみ意味がある。したがって、製造における化学不純物の含有量は、一般に、主要金属の百分率から総不純物含有量を減算した金属純度を評価する基準として用いられる。N（9の最初の文字）は通常、99.9999%を6 N、99.9999%を7 Nと表記するなど、それを表すために使用されます。

現在、高純度金属純度を表す方法は主に2種類ある：1つは材料に基づく用途であり、例えば「スペクトル純度」、「電子級純度」など、別の方法は、例えば、半導体材料はキャリア濃度で表され、キャリア濃度は1立方センチメートルマトリックス元素中の導電性不純物の数であり、金属は主に残留抵抗率RRRと純度レベルRで表される。

材料加工技術の向上に伴い、金属の純度は向上しつつあるが、絶対的に純粋な金属を製造することは不可能である。いわゆる「高純度」と「超純度」は相対的な意味を持ち、技術的に達成された基準を指す。科学技術の発展により、「高純度」と「超純度」の基準は進化しつつある。例えば、過去には、高純度金属中の不純物はppmレベル（すなわち百万分率）にあり、超純半導体材料中の不純物はppbレベル（十億分率）にあった。しかし、現在ではppbレベル（10億分の1）とpptレベル（兆分の1）で表されるように発展している。また、金属ごとに浄化の難しさも異なります。例えば、半導体材料では9 N以上が高純度とされ、6 Nまでの難溶融金属は超高純度とされている。